UV光催化氧化设备反应原理(1)UV光激发臭氧(O3)高级氧化技术是一种利用紫外光直接活化O3产生羟基自由基(·OH)的氧化过程，无需额外催化剂。其核心是通过光化学作用高效裂解O3生成H2O2。在紫外光照射下，H2O2分子吸收光子能量，均裂生成两个·OH自由基:03+hv+H0->H202+02，H2O2+hv->2·OH(2)&n

UV光催化氧化设备

反应原理

(1) UV光激发臭氧(O₃)高级氧化技术是一种利用紫外光直接活化O₃产生羟基自由基(·OH)的氧化过程，无需额外催化剂。其核心是通过光化学作用高效裂解O₃生成H₂O₂。在紫外光照射下，H₂O₂分子吸收光子能量，均裂生成两个·OH自由基:0₃+hv+H0->H₂0₂+0_2   ，H₂O₂+hv->2·OH

(2) 臭氧是一种强氧化剂(氧化电位2.07V)，直接氧化臭氧分子直接攻击有机物(特别是含双键、芳香环的化合物)O₃+有机物一中间产物一CO₂+H₂O₂选择性氧化，对烯烃、酚类、染料等高效，但对饱和烃效果较差。

设备描述

通过UV光催化臭氧并在H₂O₂的协同作用下高效产生强氧化性·OH羟基自由基，从而实现难降解有机污染物断链、开环，形成小分子有机物，并最终矿化为CO₂和H₂O。

工艺结合了H₂O₂、O₃高吸光系数(入=254nm，8=3300M^-1cm^-1)、H₂O₂高溶解性以及O₃与·HO过氧化羟基自由基高反应速率(O₃与H₂O₂的反应速率一般<0.01Ms，而O3与·HO2反应速率高达5.5X106M's)，多通路、高效率产生具有强氧化性·OH羟基自由基。

整个工艺包含03/H2O2催化氧化、03/UV激发氧化和H2O2/UV激发氧化三个产生羟基自由基的反应过程，三个过程相辅相成。

技术优势

较传统H₂0₂和O₃为基础的高级氧化，冠宇高级氧化技术O₃、H₂O₂利用率高达95%以上;

拥有独立知识产权与中国科学研究院共同研发的纳米TiO₂催化剂涂层，由于其特殊结构和材料，烧结成型的催化剂板相较传统催化剂板效率更高;

解决单一氧化剂无法实现的去除有机污染物的问题，达到超低排放要求；

充分利用臭氧的强氧化特性，结合紫外光的光催化效应，提高羟基自由基与水体污染物混合反应的效率;

解决目前常规的高级氧化处理工艺无法保证稳定处理效果的问题。

应用行业

垃圾渗滤液深度处理、化学合成药的预处理、生物制药污水深度氧化高盐化工废水处理、农药废水深度处理、膜处理工艺的浓水深度处理、市政污水投标改造、园区污水提标改造、综合废水深度处理、养殖污水深度处理、食品加工废水处理